近日，美國商務部發布公告，宣布將36家中國高科技企業及研發機構列入美出口管制“實體清單”，繼續擴大對中國半導體產業的打擊。消息一出，很多人便注意到了國內知名存儲芯片公司長江存儲，但同時大家可能忽略了名單中另一家重點企業--上海微電子。

上海微電子--中國光刻機產業之光

很多人可能不知道，上海微電子是目前中國境內最先進的光刻機企業，它生產的600系列光刻機最高工藝能達到180nm，在整個國內市場上占據很高的市場份額。

除此之外，上海微電子的6000系列光刻機技術也很成熟，它的制程工藝達到了90nm，對于國產中低端芯片的研發制造有著巨大助力。因此可以說上海微電子在中國光刻機產業中的地位相當高，類似于芯片代工企業中的中芯國際，都是各自領域中的重要存在。

國產光刻機研發進度受拖累

雖然上海微電子是國內最大的光刻機企業之一，但還與ASML等國際光刻機巨頭有很大差距，一些關鍵零件依舊受制于他國。

據悉，上海微電子光刻機的部分主要零部件來自MKS等美國零部件供應商，而這些零部件國產化率又很低。再加上零部件是個非常考驗基礎研究和長期主義的小而美賽道，其技術壁壘極高，國內短期內取代美國供應商的可能性幾乎為零。

而如今美國卻正式下令封殺上海微電子，不讓上海微電子買到任何美國的技術、設備和原材料，這將給國產光刻機的研發進展蒙上陰影。要知道早在2020年，就媒體報道，上海微電子披露，將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產的沉浸式光刻機，但到現在2022年已經接近尾聲，沒有等來上海微電子交付的第一臺28nm工藝的國產的沉浸式光刻機消息，卻等來了上海微電子被美國徹底封殺的消息，這不免讓人心酸。

不得不說，美國的這招果然夠毒，封殺中國最大的光刻機企業之一，讓國產光刻機研發進度受拖累，而沒有光刻機，國產芯片也必然會大受影響，或許最艱難的時刻已經到了。值得注意的是，這不是國產光刻機產業第一次被打壓了！

國產光刻機產業多次被打壓

ASML CEO曾表示，中國舉國之力也造不出EUV光刻機，即便公開圖紙，也沒人能造出；日本光刻膠供應商JSR公司的CEO埃里克?約翰遜，也指出中國根本無法掌握基于極紫外光刻技術，或者是被稱作EUV光刻技術的復雜芯片制造工藝。

以上兩家企業CEO明里暗里的意思都看不起中國制造光刻機的能力。但實際上，中國在光刻機研發制造上起步并不晚，曾經一度和國際頂尖的光刻機制造水平也相差不大。

早在1966年，一零九廠和上海光學儀器廠就曾聯手研制出了國內歷史上第一臺65型接觸式光刻機，研制成功后由上海無線電專用設備廠投入量產。而到了1985年，由電子部45所成功研發并制造出了國內第一臺分布式光刻機：BG-101！值得一提的是，此時中國光刻機的制造水平與國際頂尖水平的差距不到7年。

可惜到了1996年就變了，當時30多個國家共同簽署了”瓦森納協定“！而根據協定，要求對中國出口的半導體技術及光刻機設備，要比同期國際最先進技術落后兩代。此外，彼時中國沒有多余資金用在光刻機的自主研發上，這就導致與國外的差距再次被無限拉開，再加上近年來美國對上海微電子等國產光刻機企業的無理打壓，國產光刻機技術似乎已經到了無法追趕國際頂尖水平的地步了。

信息來源：智能制造